ファイル:Photolithography etching process.svg
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この SVG ファイルのこの PNG プレビューのサイズ: 120 × 600 ピクセル. その他の解像度: 48 × 240 ピクセル | 96 × 480 ピクセル | 153 × 768 ピクセル | 204 × 1,024 ピクセル | 409 × 2,048 ピクセル | 512 × 2,560 ピクセル。
元のファイル (SVG ファイル、512 × 2,560 ピクセル、ファイルサイズ: 10キロバイト)
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W3C-validity not checked.概要
| 解説 |
English: Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. Note: Not to scale. |
| 原典 | 投稿者自身による著作物 |
| 作者 | Cmglee |
| その他のバージョン |
|
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ライセンス
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ファイルの履歴
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| 日時 | サムネイル | 寸法 | 利用者 | コメント | |
|---|---|---|---|---|---|
| 現在の版 | 2025年10月11日 (土) 14:35 | | 512 × 2,560 (10キロバイト) | wikimediacommons>Wikipidéanach | File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for ga. |
ファイルの使用状況
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