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- [[Category:半導体製造]] …3キロバイト (79 語) - 2024年8月30日 (金) 02:03
- [[Category:半導体製造]] …3キロバイト (67 語) - 2023年3月23日 (木) 22:24
- {{混同|[[半導体製造]]に用いられる原料ガスとしての『電子ガス』|[[半導体素子]]に存在する状態としての『[[二次元電子ガス]]』}} …4キロバイト (146 語) - 2024年11月26日 (火) 17:05
- …'High-κ絶縁体'''（はいかっぱぜつえんたい）とは、（[[二酸化ケイ素]]と比べて）高い[[比誘電率]] κ を持つ材料に対する呼称である。[[半導体製造]]プロセスでHigh-κ絶縁体は、二酸化ケイ素[[ゲート酸化物|ゲート絶縁体]]やその他の絶縁膜を置き換えるために用いられる。high-κゲート絶縁体 [[Category:半導体製造]] …11キロバイト (645 語) - 2024年7月9日 (火) 13:38
- 22キロバイト (787 語) - 2023年8月28日 (月) 16:11
- 8キロバイト (362 語) - 2024年1月5日 (金) 08:11
- [[Category:半導体製造]] …10キロバイト (191 語) - 2024年12月13日 (金) 14:20
- [[Category:半導体製造]] …11キロバイト (127 語) - 2023年1月16日 (月) 08:47
- 14キロバイト (643 語) - 2024年7月19日 (金) 07:09
- [[Category:半導体製造]] …14キロバイト (580 語) - 2024年4月29日 (月) 00:02
- [[Category:半導体製造]] …20キロバイト (831 語) - 2024年7月8日 (月) 15:40
- [[Category:半導体製造]] …26キロバイト (635 語) - 2024年1月13日 (土) 15:12
- 51キロバイト (1,144 語) - 2025年2月27日 (木) 04:39